Epitaxní vrstva AlN nadeponovaná vysokoteplotní aparaturou MOCVD

ŠIK, O.; VOBORNÝ, S.; MÜNZ, F.; HUBÁLEK, J., 2018: Epitaxní vrstva AlN nadeponovaná vysokoteplotní aparaturou MOCVD. ; FULL TEXT

Research Groups:

• Smart Nanodevices - Vojtěch Adam

CEITEC authors:

• Ondřej Šik, Ph.D.
• Stanislav Voborný, Ph.D.
• Filip Münz, Ph.D.
• Jaromír Hubálek, Ph.D.